E-mail : xitang@126.com郑州市紫荆山路72号裕鸿花园D座5层

Centrotherm 快速热工艺设备/快速退火炉-RTP 150

  Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150

  德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商,尤其在高温设备领域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火设备,主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。

  

  Centrotherm测温系统适用于从室温至高温的广泛区间。Centrotherm优化的多区温控系统结合可以独立控制的加热灯,提供了出色的控温精度和控温重复性。

  此款设备配置手动装载系统,适用于研发以及小型的量产。

  成熟的真空操作和气体管理系统为多种应用提供了可控的气体环境。出色的性能和高度的灵活性,结合小的占地面积,低的客户拥有成本,使c.RAPID 150成为一款的手动RTP设备。

  退火:一般退火、接触层(Contact)退火、源/漏退火、势垒金属退火

  硅化

  氧化

  掺杂活化

  可在常压或者真空(控压)下工作

  高度灵活性:适用于6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盘

  升温速率约150 K/s

  出色的温度均匀性

  ***的环境控制

  高的设备可靠性

  可以并排安装

  Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150

  德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商,尤其在高温设备领域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速热工艺设备,主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。

  

  RTP 150型快速热反应设备,采用紧凑型的真空腔室设计满足多种工艺需要,是一款可用于生产和研发用的单晶圆工艺设备。

  RTP 150型设备包括一个带集成压力学习控制压力范围在1mbar至50mbar的真空腔室。采用灯管加热系统提供了可调节的加热均匀性控制,采用了CENTROTHERM公司专利技术的温度控制系统。

  RTP系统可用于6寸晶圆和5寸石墨基板的加热。可在15分钟内更换基板的尺寸和类型。

  设备用于高性能、小占地面积、低成本高工艺灵活性的工艺场合。

  设备特点:

  压力可控的真空或大气环境下工作

  高灵活性:6寸硅片或其他材料

  温度范围:20℃~1150℃

  不限时加热的工艺温度可达 750℃

  升温速率可达150k/s(即150℃/秒)

  每个加热灯管独立控制,极高的温度均匀性

分享到:
上一篇:首尔一地 6 晚 7 天       下一篇:没有了

喜堂郑州店  TEL:0371-53737377 / 53737317  E-MAIL:xitang@126.com
                ADD:郑州市紫荆山路72号裕鸿花园D座5层
Power by DedeCms